鼓风干燥箱产品图

真空炉广泛用于陶瓷、冶金、电子、玻璃、化工、机械、耐火材料、新材料开发、特种材料、建材等领域的生产及实验。
在粉末冶金中,真空烧结主要用于烧结活性金属和难熔金属铍、钍、钛、锆、钽、铌等;烧结硬质合金、磁性合金、工具钢和不锈钢;以及烧结那些易于与氢、氮、一氧化碳等气体发生反应的化合物。

真空炉又名无氧退火炉、真空气氛烧结炉等物体在通入一定气体的炉膛内进行烧结的方法。不同的材料选择适宜的气氛烧结,有助于烧结过程,提高制品致密化程度、获得良好的性能的制品。真空气氛炉常用的有真空、氢、氧、氮和惰性气体(如氩)等各种气氛。例如透明氧化铝陶瓷可用氢气氛烧结,透明铁电陶瓷宜用氧气氛烧结,氮化物陶瓷如氮化铝等宜用氮气氛烧结。有时为保护烧结调协也须在保护气氛中操作。如钼丝炉宜通氢,钨丝炉宜在真空条件下工作。

一、真空箱式炉应用领域

该真空箱式炉以硅碳棒为加热元件,采用双层壳体结构和40段程序控温系统,移相触发、可控硅控制,炉膛采用氧化铝多晶纤维材料,真空箱式炉广泛应用于金属材料在低真空、还原性、保护性气氛下的热处理;也可以用于特殊材料的热处理。

二、真空箱式炉主要特点
炉门口安装有水冷系统,气体经过流量计后由后膛进入,并有多处洗炉膛进气口,出气口处有燃烧嘴,可以通氢气、氩气、氮气、氧气、一氧化碳等气体,能抽真空,真空度可达5pa,该炉具有温场均衡、表面温度低、升降温度速率快、节能等优点,是高校、科研院所、工矿企业做气氛保护烧结、气氛还原用的理想产品。

三、真空箱式炉规格型号

设备型号

ZS-THX-01

ZS-THX-02

ZS-THX-03

ZS-THX-04

ZS-THX-05

高温度

1360℃

1360℃

1360℃

1360℃

1360℃

控制精度

±1℃

±1℃

±1℃

±1℃

±1℃

炉膛尺寸(mm)

(W×H×L)

200*200*500

300*300*630

300*300*1260

300*300*1470

300*300*1680

发热元件

Φ12*650硅碳棒

Φ12*750硅碳棒

真空度

66.6pa

66.6pa

66.6pa

66.6pa

66.6pa

冷态压升率

≦10~20pa/h

≦10~20pa/h

≦10~20pa/h

≦10~20pa/h

≦10~20pa/h

大功率

12Kw

30kw

60kw

80kw

100kw

温控方式

可控硅模块自控

*其它尺寸要求的可以按照尺寸要求定制

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