真空烘箱报价产品概述;
    真空烘箱报价的温度分辨率为0.1℃,温度波动为±0.5℃。真空烘箱外壳采用医用级不锈钢316L,内罐采用不锈钢316L,加热器均匀分布于罐外壁,罐内无电器附件和易燃易爆装置。钢化防弹双层玻璃门,对工作室内的物品一目了然。

       真空烤箱

带HMDS预处理系统的真空烘箱

型号:KB-Z50

电源电压:AC 380V±10%50Hz±2%

输入功率:4000W

温度控制范围:室温+10℃-250℃温度分辨率:0.1℃温度波动:±0.5℃真空度:133pa容积:210L

工作室尺寸(mm):560*640*600

外形尺寸(mm):720*820*1750

装载支架:3件

时间单位:分钟

真空泵:国产好品牌,上海“慕虹”型号:Dm-4,叶片油泵。

真空烘箱报价特点:

1、外壳采用不锈钢SUS304,内罐采用不锈钢316L;加热器均匀分布于罐外壁,罐内无电器附件和易燃易爆装置。钢化防弹双层玻璃门,对工作室内的物品一目了然。

2、门的松紧度可以调节。硅橡胶门密封圈整体成型,保证箱内真空度高。

3、微机智能温控仪具有设定、测温、双数字显示和PID自整定功能,能准确可靠地控制温度。

4、智能触摸屏控制系统采用三菱PLC模块,可根据不同工艺条件改变程序、温度、真空度及各程序时间。

5、HMDS气体封闭式自动吸收添加设计,真空箱密封性能好,保证了HMDS气体不泄漏。

6、整个系统采用优质无尘材料,适用于100级光刻室的清洁环境。

真空烘箱扩展知识介绍

在半导体生产过程中,光刻是集成电路图形传递的重要过程。胶合质量直接影响到光刻质量,而涂布工艺尤为重要。光刻胶涂布过程中大多数光刻胶是疏水性的,而硅片表面的羟基和残留水分子是亲水性的,这导致光刻胶与硅片之间的附着力较差,尤其是正片光刻胶。在显影过程中,显影液会侵入光刻胶与硅片的交界处,容易产生漂移、浮胶等现象,导致光刻图案转移失败。同时,湿法腐蚀容易产生横向腐蚀。六甲基二硅氮烷可以改善这种状况。在硅片表面包覆HMDS,在烘箱中加热,形成以硅氧烷为主体的化合物。它成功地将硅片表面由亲水性改为疏水性。其疏水基团与光刻胶结合良好,起到偶联剂的作用。
       真空烘箱技术表;

        真空烘箱参数表